等離子光催化廢氣處理器

采用脈沖高壓高頻等離子休電源和齒板放電裝置，使其產生高強度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒級的時間內，瞬間對有害廢氣分子進行氧化還原反應，將廢氣中的大部分污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質。利用催化氧化劑的強氧化性和高吸附性，持續地對等離子休未處理盡的污染物和生成的物質進行催化氧化反應，使有害廢氣經過多級凈化后達標排放。

等離子光催化廢氣處理器點：

①能耗低，可在室溫下與催化劑反應，無需加熱，極大地節約了能源；

②使用便利，設計時可以根據風量變化以及現場條件進行調節；

③不產生副產物，催化劑可選擇性地降解等離子體反應中所產生的副產物；

④不產生放射物；

⑤尤其適于處理有氣味及低濃度大風量的氣體。

當廢氣進入等離子光解一體機凈化設備內時，先經過等離子體化學反應過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發，同時有部分分子被電離， 從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩定產物和熱。

等離子光催化廢氣處理器運用于油漆噴涂、造紙頁、制藥業、輪胎及橡膠生產廠、汽車生產、污水處理、污泥廢氣處理、垃圾處理廢氣、皮革業、印刷廠、香料生產業、飼料及飼養場、以及煙草業等等多個領域的有毒有害氣體、異味和惡臭處理。涉及氣體物質多達900多種，主要包括：硫化氫、氨氮類、硫醇類、硫醚類、吲哚類、苯類、硝基類、烴類以及醛類等類別 。